1. လက်ရှိယှဉ်ပြိုင်မှု၏လက်ရှိအခြေအနေနှင့်စိန်ခေါ်မှုများ
ချစ်ပ်နည်းပညာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသည်ယနေ့နည်းပညာပြိုင်ပွဲ၏အဓိကအချက်ဖြစ်သည်, သို့သော်အပြည်ပြည်ဆိုင်ရာနိုင်ငံရေးနှင့်စီးပွားရေးဂိမ်းများ၏အဓိကအချက်များလည်းဖြစ်သည်။လွတ်လပ်သောချစ်ပ်သုတေသနနှင့်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုဆိုင်ရာအောင်မြင်မှုများတွင်တရုတ်သည်အချို့သောအောင်မြင်မှုများကိုပြုလုပ်ခဲ့သော်လည်းပြင်ပခြိမ်းခြောက်မှုများနှင့်ပြည်တွင်းရေးပြ problems နာများနှင့်ရင်ဆိုင်နေရဆဲဖြစ်သည်။ပြည်တွင်းမီဒီယာများက "တရုတ်နိုင်ငံ၏အဓိကအောင်မြင်မှုများ" ကဲ့သို့သောမိမိကိုယ်ကိုတီထွင်ထားသောချစ်ပ်များ၏ရလဒ်များအပေါ်တွင်ဖော်ပြသည့်အခါ,သို့သော်ဤဖြစ်ပေါ်တိုးတက်မှုများနောက်ကွယ်တွင်မသိသောစိန်ခေါ်မှုများနှင့်အကြပ်အတည်းများစွာရှိနေသေးသည်။
ဥပမာအားဖြင့်, တရုတ် Micro SemiconDuctor ၏ 5nm actching machine technology တွင်အောင်မြင်မှုများသည်ချီးမွမ်းထိုက်သည်။ဤနည်းပညာ၏အောင်မြင်သောအကောင်အထည်ဖော်မှုနှင့်အစုလိုက်အပြုံလိုက်ထုတ်လုပ်မှုသည်တရုတ်၏ Semiconductor Industry သည်အချို့သောနယ်ပယ်များတွင်ကမ္ဘာ့အဆင့်မြင့်အဆင့်မြင့်ရောက်ရှိလာပြီဖြစ်သည်။သို့သော် Self-Media သည်နည်းပညာကိုမှားယွင်းစွာဖြည့်ဆည်းပေးပြီးဆွဲဆောင်စက်ကို photolithography စက်နည်းပညာအဖြစ်မဟုတ်မမှန်မြှင့်တင်ခဲ့သည်။၎င်းသည် Sememiconductor နည်းပညာ၏အများပြည်သူ၏အထွေထွေ၏အထွေထွေနားလည်မှုလွဲခြင်းများကိုပြရုံသာမကမီဒီယာအချို့၏လျင်မြန်စွာအောင်မြင်မှုအတွက်ဒေါသထွက်မှုနှင့်စိတ်အားထက်သန်မှုကိုထင်ဟပ်ပြသခဲ့သည်။
အခြားတစ်ဖက်တွင်မူအသစ် U.S. Regulation အသစ်များသည်အဓိကနည်းပညာများနှင့်ပစ္စည်းကိရိယာများကိုတရုတ်နိုင်ငံကဲ့သို့သောနိုင်ငံများသို့တင်ပို့မှုကိုကန့်သတ်ထားသည်။ဤမူဝါဒနောက်ကွယ်တွင်နည်းပညာဆိုင်ရာအတားအဆီးများကိုတည်ထောင်ခြင်းသာမကအပြည်ပြည်ဆိုင်ရာနည်းပညာဖလှယ်မှုများကိုလည်းထိန်းချုပ်ရန်လည်းမဟုတ်ပါ။သိသာထင်ရှားတဲ့ဒီဟာကတရုတ်ရဲ့ချစ်ပ်လုပ်ငန်းအတွက်တိုက်ရိုက်စိန်ခေါ်မှုတစ်ခုသာမကအပြည်ပြည်ဆိုင်ရာနိုင်ငံရေးမဟာဗျူဟာကိုပြသခြင်းလည်းဖြစ်သည်။ဤကန့်သတ်ချက်များကြောင့်တရုတ်သည်အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းကိရိယာများကိုမိတ်ဆက်ပေးသည့်အတားအဆီးအသစ်များနှင့် ပတ်သက်. အတားအဆီးအသစ်များနှင့်ကြုံတွေ့ခဲ့ရသည်။
2. နည်းပညာဆိုင်ရာစိန်ခေါ်မှုများနှင့်လွတ်လပ်သောသုတေသနနှင့်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု
နည်းပညာပိုင်းအရတရုတ်၏ chip လုပ်ငန်း၏လက်ရှိအခြေအနေသည် "တစ်စိတ်တစ်ပိုင်းအောင်မြင်မှု, နောက်ဆက်တွဲ" ပုံစံဖြစ်သည်။အချို့သောရှုထောင့်များတွင်တိုးတက်မှုများပြုလုပ်ထားသော်လည်းနိုင်ငံတကာအဆင့်မြင့်အဆင့်နှင့်နှိုင်းယှဉ်လျှင်ရှင်းလင်းသောကွာဟချက်တစ်ခုရှိနေသေးသည်။လွတ်လပ်သောချစ်ပ်သုတေသနနှင့်ဖွံ့ဖြိုးမှုအခက်အခဲသည်ရှုပ်ထွေးသောအပြည်ပြည်ဆိုင်ရာပတ်ဝန်းကျင်, ပြင်းထန်သောစက်မှုလုပ်ငန်းပြိုင်ဆိုင်မှုနှင့်နည်းပညာဆိုင်ရာစိန်ခေါ်မှုအမျိုးမျိုးတို့တွင်ရှိသည်။
nanoscale chip ထုတ်လုပ်မှုထုတ်လုပ်မှု၏အဓိကအချက်မှာပေါင်းစပ်ထားသော circuits (ICS) ၏တိကျသောဒီဇိုင်းနှင့်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်တည်ရှိသည်။IC ဒီဇိုင်းမှကျွန်ုပ်တို့စတင်သည်။ အဆင့်တစ်ခုစီသည်အလွန်မြင့်မားသောနည်းပညာအခက်အခဲနှင့်ဆန်းသစ်တီထွင်မှုလိုအပ်ချက်များကိုထင်ဟပ်စေသည်။IC ဒီဇိုင်း၏သော့သည် Circuits Elements နှင့် Transistors ကိုစွမ်းဆောင်ရည်လိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီရန်အလွန်သေးငယ်သောနေရာတစ်ခုသို့မည်သို့ပေါင်းစည်းရမည်နည်း။Circuit ဒီဇိုင်း, ယုတ္တိဗေဒပုံစံမှ Circuit layout နှင့်ဝါယာကြိုးများအနေဖြင့် link တိုင်းသည်အတိအကျတွက်ချက်မှုများနှင့်ဆန်းသစ်သောအတွေးအခေါ်များလိုအပ်သည်။ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် Photolithography နည်းပညာ၏တိကျမှုနှင့်ထိရောက်မှုသည် chip စွမ်းဆောင်ရည်အတွက်အလွန်အရေးကြီးသည်။
nanoscale ချစ်ပ်များ၏ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသမိုင်းသည်အညီအမျှအထင်ကြီးစရာဖြစ်သည်။Moore သည်သူ၏ကျော်ကြားသော Moore ၏ဥပဒေကို 1965 ခုနှစ်တွင်အဆိုပြုထားသောကြောင့် Semiconductor Industry သည်ကြီးမားသောပြောင်းလဲမှုများကိုကြုံတွေ့ခဲ့ရသည်။ကန ဦး 10-micron trunning မှယနေ့ 7nm မှ 7nm ဖြစ်စဉ်ကိုယနေ့မှစစ္စရစ်ပေါ်ရှိ transistors အရေအတွက်နှင့်သိပ်သည်းဆအဆတိုးမြှင့်ခဲ့သည်။၎င်းသည်နည်းပညာတိုးတက်မှု၏သက်သေသာဓကသာမကလူ့ဉာဏ်ပညာနှင့်ဆန်းသစ်တီထွင်မှုများကိုလည်းတင်ပြခြင်းဖြစ်သည်။
အကျဉ်းချုပ်:
တရုတ်နိုင်ငံ၏သုတေသနနှင့်ကွန်မြူနစ်ချစ်ပ်များသုတေသနလုပ်ငန်းများဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုဆိုင်ရာစိန်ခေါ်မှုများမှာမူ,အချို့သောအောင်မြင်မှုများပြုလုပ်ခဲ့ကြသော်လည်းနိုင်ငံတကာအဆင့်မြင့်အဆင့်ကိုအမှန်တကယ်ရောက်ရှိရန်မပြတ်စွာကြိုးပမ်းမှုများနှင့်စဉ်ဆက်မပြတ်ဆန်းသစ်တီထွင်မှုများလိုအပ်နေဆဲဖြစ်သည်။အနာဂတ်ကိုရှာဖွေခြင်းသည်ကျွန်ုပ်တို့၏လွတ်လပ်သောသုတေသနနှင့်ဖွံ့ဖြိုးရေးစွမ်းရည်များကိုဆက်လက်ခိုင်မာအောင်လုပ်သင့်ပြီးကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာဆီမီးွန်နီကော်ဒာ 0 န်ကြီးလုပ်ငန်းတွင်နေရာတစ်ခုကိုသိမ်းပိုက်ရန်အတွက်နည်းပညာဆိုင်ရာအခက်အခဲများကိုဆက်လက်ဖြည့်ဆည်းပေးသင့်သည်။