1. Trenutni status i izazovi međunarodne konkurencije
Razvoj CHIP tehnologije nije samo fokus tehnološke konkurencije danas, već je i jezgra međunarodnih političkih i ekonomskih igara.Iako je Kina postigla određena dostignuća u neovisnim istraživanjima i razvoju čipova, ona se i dalje suočava s teškim vanjskim prijetnjama i unutarnjim problemima.Kad god domaći mediji izvještavaju o rezultatima samorazvijenih čipova, poput "kineskog glavnog proboja u tehnologiji čipova", uvijek možemo osjetiti osjećaj ponosa i očekivanja.Međutim, iza ovih događaja još uvijek postoji mnogo nepoznatih izazova i dilema.
Na primjer, postignuća Kine Micro poluvodiča u tehnologiji stroja za jetkanje od 5 nm vrijedna su pohvale.Uspješna implementacija i masovna proizvodnja ove tehnologije označava da je kineska industrija poluvodiča dosegla naprednu svjetsku razinu na određenim područjima.Međutim, samomedijski su pogrešno prijavili tehnologiju i lažno promovirali stroj za jetkanje kao tehnologiju strojeva za fotolitografiju.To ne samo da je pokazalo opće nerazumijevanje javnosti o tehnologiji poluvodiča, već je odražavalo i žestokost i želju za brzim uspjehom nekih medija.
S druge strane, novi američki propisi ograničavaju izvoz ključnih tehnologija i opreme u zemlje poput Kine.Iza ove politike ne stoji samo uspostavljanje tehničkih prepreka, već i kontrola međunarodnih tehnoloških razmjena.Očito je da to nije samo izravan izazov kineskoj industriji čipova, već i manifestacija međunarodne političke strategije.Zbog ovih ograničenja, Kina je naišla na nove prepreke u uvođenju napredne opreme, posebno kupnje ključnih tehnologija kao što su EUV litografski strojevi, koji je imao dubok utjecaj na domaću proizvodnju čipova.
2. Tehnički izazovi i neovisna istraživanja i razvoj
Tehnički gledano, trenutna situacija kineske industrije čipova je model "djelomični proboj, ukupno praćenje".Iako je napredak postignut u nekim aspektima, još uvijek postoji jasan jaz u usporedbi s međunarodnom naprednom razinom.Poteškoća neovisnog istraživanja i razvoja čipova leži u složenom međunarodnom okruženju, konkurenciji žestoke industrije i različitim tehničkim izazovima.
Jezgra proizvodnje nanosnih čipova leži u preciznom dizajnu i proizvodnji integriranih krugova (ICS).Krećemo od IC dizajna, a svaki korak odražava izuzetno velike tehničke poteškoće i inovacijske zahtjeve.Ključ IC dizajna je kako integrirati tisuće elemenata kruga i tranzistora u vrlo mali prostor kako bi se ispunili sve veći zahtjevi za performanse.Od dizajna kruga, sinteze logike, do izgleda kruga i ožičenja, svaka veza zahtijeva precizne proračune i inovativno razmišljanje.U procesu proizvodnje, točnost i učinkovitost tehnologije fotolitografije ključni su za čipske performanse.
Razvojna povijest čipsa nanosnica podjednako je impresivna.Otkako je Moore predložio svoj poznati Mooreov zakon 1965. godine, industrija poluvodiča doživjela je ogromne promjene.Od početnog procesa od 10 mikrona do današnjeg procesa 7nm, broj i gustoća tranzistora na čipu su se eksponencijalno povećali.To nije samo dokaz tehnološkog napretka, već i manifestacija ljudske mudrosti i inovativnog duha.
Rezimirati:
Izazovi s kojima se Kina suočava u istraživanju i razvoju čipova nanosnica, više su propisane, uključujući ogromne međunarodne političke i ekonomske pritiske i inherentne poteškoće u tehnološkom razvoju.Iako su određena dostignuća, neprekidni napori i kontinuirana inovacija još uvijek su potrebni kako bi se istinski dostigla međunarodna napredna razina.Gledajući u budućnost, trebali bismo nastaviti jačati svoje neovisne mogućnosti istraživanja i razvoja i prevladati tehničke poteškoće kako bismo zauzeli mjesto u globalnoj industriji poluvodiča.